一、20工位 高溫真空電弧爐紐扣爐設(shè)備用途 ：

用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。

二、20工位 高溫真空電弧爐紐扣爐設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)：

1、型號： KDH-1000

2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室

3、真空系統(tǒng)配置：TRP-36直聯(lián)泵、ISO200口徑JTFB-1200分子泵、一臺(tái)高真空插板閥，兩臺(tái)氣動(dòng)擋板閥和旁路閥及管道組成。

4、冷態(tài)極限真空度 ≤6.7x10E-4Pa

5、熔煉電流：額定電流1000A

6、腔室尺寸：￠400*410

7、電源功率：≤60KW

8、熔煉坩堝 設(shè)計(jì)有五個(gè)工位。一個(gè)半球形帶吸鑄功能的工位，四個(gè)熔煉除氣工位。五工位均勻規(guī)則排列，工位容重（樣品重量）150-200克。其中1個(gè)工位可帶帶磁攪拌功能。

9、工作氣體：Ar氣；

10、翻料方式：手動(dòng)懸臂翻料，有機(jī)械手翻轉(zhuǎn)組件

11、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧

12、電極桿和機(jī)械手均采用球密封機(jī)構(gòu)，簡便有效；電極桿電動(dòng)升降，操作便攜

13、爐體側(cè)部開門，裝卸料方便省去上部打開爐蓋裝卸料的不便，門上有操作觀察窗方便看清內(nèi)部熔化情況。

三、設(shè)備組成：

主要由電弧熔煉真空室、電弧槍、電弧熔煉電源、四工位水冷銅坩堝、翻轉(zhuǎn)機(jī)械手、真空吸鑄裝置、工作氣路、系統(tǒng)抽氣、真空測量及電氣控制系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)等各部分組成。

1、電弧熔煉真空室：真空室立式圓筒形設(shè)計(jì)，結(jié)構(gòu)簡介美觀，側(cè)部開有KF快接接口，用于真空閥門及輔助測量原件的安裝，在真空室正前方有一小爐門，側(cè)部打開，方便裝卸料。小爐門上有觀察窗，方便在冶煉時(shí)觀察爐內(nèi)情況。上部是圓形密封雙層水冷爐蓋，留有電極桿升降安裝孔。

2、電弧槍及電弧槍升降裝置：電弧槍采用水冷設(shè)計(jì)，可耐高溫，同時(shí)頭部快捷安裝設(shè)計(jì)，便于更換電極鎢針棒。上部密封采用球形窩狀設(shè)計(jì)，電極圓周方向旋轉(zhuǎn)自然無卡頓。電極升降采用電動(dòng)升降，有電機(jī)減速機(jī)組成，運(yùn)行平穩(wěn)，同時(shí)操作按鈕在升降桿旋轉(zhuǎn)把手處安裝，操作便攜。

水冷銅坩堝：銅坩堝爐底采用雙側(cè)水冷設(shè)計(jì)，設(shè)計(jì)有五個(gè)工位。一個(gè)半球形帶吸鑄功能的工位，四個(gè)熔煉除氣工位。五工位均勻規(guī)則排列，工位容重（樣品重量）150-200克。其中1個(gè)工位可帶帶磁攪拌功能。

3、翻轉(zhuǎn)機(jī)械手：翻轉(zhuǎn)機(jī)械手也采用球形窩狀設(shè)計(jì)，方便旋轉(zhuǎn)翻料。

4、電控系統(tǒng)：電器元器件均采用西門子施耐德等品牌，控制柜體上有操作模擬屏，，便于學(xué)習(xí)和操作。上面配有冶煉電流指示表，各部件的操作按鈕，故障指示燈等簡潔直觀。

5、吸鑄裝置：在坩堝的前方區(qū)域留有一真空吸鑄工位，吸鑄銅模采用快捷式安裝，方便拆卸，在坩堝底部留有吸鑄真空接口，并配有真空閥門隔斷。吸鑄閥門與一吸鑄緩沖真空罐鏈接，在吸鑄之前先將緩沖罐抽成真空狀態(tài)，待需要吸鑄時(shí)打開真空閥門，完成吸鑄動(dòng)作。模具采用兩瓣拼接組合模式方便，方便拆卸和取料。

6、真空系統(tǒng)及測量：采用TRP-36直聯(lián)泵、JTFB-1200分子泵、三臺(tái)氣動(dòng)擋板閥和各種管路真空系統(tǒng)獨(dú)立安裝，采用氣動(dòng)模式，所有閥門采用快捷安裝方式，方便拆卸，真空系統(tǒng)獨(dú)立設(shè)計(jì)安裝在一可以移動(dòng)的安裝平臺(tái)上，方便對接安裝和供其它設(shè)備使用。真空測量采用復(fù)合真空計(jì)，測量數(shù)顯顯示。可擴(kuò)展通訊模式。

7、電弧電源：采用電弧熔煉專用電弧電源，輸出電流高達(dá)1200A,滿足大容量長時(shí)間葉琳的需求，具有故障報(bào)警指示，安全可靠。